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OC廢氣處理設備從理論上講,只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發產生電子和空穴,該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優點,具體研究中可根據需要選用,如CdS半導體帶隙能較小,跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發生光腐蝕,使用壽命有限。相對而言,Ti02的綜合性能較好,是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。




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催化燃燒廢氣處理設備。解吸后的吸收劑經過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔,被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化,其他情況下需要作相應的工藝調整。 催化燃燒廢氣處理設備 根據狀態、溫度和離子密度,等離子體通常可以分為高溫等離子體和低溫等離子體(包子體和冷等離子體)。其中高溫等離子體的電離度接近1,各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學平衡狀態,它主要應用在受控熱核反應研究方面。而低溫等離子體則學非平衡狀態,各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti),可達104K以上,而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300~500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。




工作原理及流程:催化凈化是典型的氣固相催化反應,其實質是活性氧參與的深度氧化作用。在催化凈化過程中,催化劑的作用是降低活化能,同時催化劑表面具有吸附作用,使反應物分子富集于表面提高了反應速率,加快了反應的進行。借助催化劑可使有機廢氣在較低的起燃溫度條件下,發生無焰燃燒,并氧化分解為CO2和H2O,同時放出大量熱能,從而達到去除廢氣中的有害物的方法。 吸附法關鍵適用較低濃度的煤層氣氣體空氣污染物的凈化,濃度較高的有機化學煤層氣汽體在吸附凈化前必須減少濃度值。吸附技術是經典、常見的有機廢氣處理技術,也是工業化生產中的流行技術之一。吸附法的核心技術是吸附劑、吸附機設備和加工技術、再制造材料和后處理技術。活性炭具有較大的比表面積和微孔結構,廣泛應用于有機氣的吸附和回收。現階段,活性炭吸附有機廢氣的科學研究關鍵集中化在吸附平衡的預測分析、活性碳原材料的改性及其有機化合物的理化性質對活性炭吸附特性的危害。
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