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有機廢氣處理設備 吸收了VOCs的吸收劑通過熱交換器后，進入汽提塔頂部，在溫度高于吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸。解吸后的吸收劑經過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應的工藝調整。 有機廢氣處理設備 當吸附進行一段時間后，由于表面吸附質的濃集，使其吸附能力明顯下降而吸附凈化的要求，此時需要采用一定的措施使吸附劑上已吸附的吸附質脫附，以協的吸附能力，這個過程稱為吸附劑的再生。因此在實際吸附工程中，正是利用吸附一再生一再吸附的循環過程，達到除去廢氣中污染物質并回收廢氣中有用組分。 等離子體就是處于電離狀態的氣體，等離子體由大量的子、中性原子、激發態原子、光子和自由基等組成，但電子和正離子的電荷數必須體表現出電中性，這就是“等離子體”的含義。等離子體具有導電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同，因此又有人把它稱為物質的第四種狀態。 根據狀態、溫度和離子密度，等離子體通常可以分為高溫等離子體和低溫等離子體（包子體和冷等離子體）。其中高溫等離子體的電離度接近1，各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學平衡狀態，它主要應用在受控熱核反應研究方面。而低溫等離子體則學非平衡狀態，各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti)，可達104K以上，而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300～500K
光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產物，而傳統的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒，大多數生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，燃燒生成產物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發產生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優點，具體研究中可根據需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。
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揮發性有機廢氣經系統風機推進或者吸入RTO進口集風管，切換閥引導氣體進入蓄熱床，氣體在經由陶瓷蓄熱床到燃燒室的過程中被逐漸預熱，在燃燒室高溫(約800℃)氧化分解，凈化后的高溫尾氣在通過另一陶瓷蓄熱床時會將熱量留在其中，使得出口處的蓄熱床得到加熱，凈化尾氣得到降溫，使得出口溫度略高于RTO進口溫度，通常情況下溫升高不超過50-70℃。 切換閥改變氣流進入蓄熱床的方向，實現蓄熱區與放熱區的交替轉換，實現大化回收焚化爐內的熱量，高熱能回收率降低了燃料的需求節省了運行本錢。當系統VOC濃度大于矜持濃度(甲苯1200mg/m3、二甲苯1100mg/m3)時，RTO即不需輔助燃料便能夠維持VOC氧化分解前提，同時可對外輸出系統余熱。 催化熱力燃燒工藝是涂裝行業這類廢氣成分穩定復雜、廢氣濃度高、粉塵含量高的工況首先治理技術，其凈化效果非常理想，凈化效果比較徹底，無或很少二次污染物產生，若是能做到處理過程中熱量回收利用，那便可以省一筆不菲運營成本。活性炭吸附脫附只針對于那些低濃度小風量工況項目，這樣從企業角度來講降低企業上環保設備的*成本，在運營后期相對于催化熱力燃燒來講，也比較劃算，是除了催化熱力燃燒之外，涂裝噴漆廢氣處理工藝的好選擇。
