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原理：將有臭味地氣體通過煙囪排至大氣，或用無臭空氣稀釋，降低惡臭物質濃度以減少臭味。適用范圍：適用于處理中、低濃度的有組織排放的惡臭氣體。優(yōu)點：費用低、設備簡單。缺點：易受氣象條件限制，惡臭物質依然存在,利用臭氣中某些物質易溶于水的特性，使臭氣成分直接與水接觸，從而溶解于水達到脫臭目的。適用范圍：水溶性、有組織排放源的惡臭氣體。 優(yōu)點：工藝簡單，管理方便，設備運轉費用低 產(chǎn)生二次污染，需對洗滌液進行處理。缺點：凈化效率低，應與其他技術聯(lián)合使用，對硫醇，脂肪酸等處理效果差,將惡臭物質以曝氣形式分散到含活性污泥的混和液中，通過懸浮生長的微生物降解惡臭物質 適用范圍廣。優(yōu)點：活性污泥經(jīng)過馴化后，對不超過極限負荷量的惡臭成分，去除率可達99.5%以上。




光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。




化工廢氣處理設備 采用低溫等離子催化技術+納米技術，在水中產(chǎn)生大量羥基自由基氧化分解大量有機廢氣，其終生算作物是CO2、H2O和無害羧酸。氧化催化劑為貴金屬氧化物，氧化劑在催化劑的浸染下，發(fā)生氧化性*的羥基自由基（OH），這些自由基可分化幾乎所有有機物，將其所含的氫（H）和碳（C）氧化算作水和二氧化碳。除電耗、水耗外，不用耗其他原料，不帶來二次污染，無需二次措置 等離子凈化器技術處理污染物的原理為：在外加電場的作用下，介質放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復雜的物理、化學反應，使復雜大分子污染物轉變?yōu)楹唵涡》肿游镔|，或使有毒有害物質轉變成無害或低毒低害的物質，從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量在10ev ，適當控制反應條件可以實現(xiàn)一般情況下難以實現(xiàn)或速度很慢的化學反應變得十分快速。作為環(huán)境污染處理領域中的一項具有強潛在優(yōu)勢的高新技術，等離子體受到了相關學科界的高度關注。 定機高溫油悊廢氣經(jīng)過道連壘一級處理箱(水膜欠理)，判氣與高壓水憲充分接觸，沉滌掉音分油煳及顆粒物和初級降溫，煙氣到達熱交換器箱經(jīng)過換熱界進一步降溫達到適合靜電工作的溫度。米煙氣經(jīng)過除霧裝置分離卓煙氣中部分水分。煙氣進入第三級處理箱(高壓靜電集中凈化箱)深度凈化后達標排放。




越浩環(huán)保設備有限公司為多元化生產(chǎn)企業(yè)，是一家*從事廢氣處理設備、中央除塵設備、噴漆房、移動噴漆房，工業(yè)噴漆房，污水處理設備、噴涂設備。 公司自成立以來始終專注于催化燃燒廢氣處理設備、環(huán)保噴漆房、無塵打磨房、催化燃燒設備、中央除塵設備、voc廢氣處理設備廠家、工業(yè)廢氣污水噪音等環(huán)境污染的治理，先后研發(fā)出光氧催化廢氣處理設備、粉塵處理一體化設備等系列環(huán)保設備，公司主要從事高濃度有機廢氣VOC的治理、工業(yè)廢水。生活污水的治理、垃圾除臭、污泥除臭、污水除臭、污水泵站除臭、粉塵治理、消聲隔音等系列產(chǎn)品。產(chǎn)品廣泛用于橡膠行業(yè)、化工行業(yè)、石油行業(yè)、醫(yī)藥行業(yè)、礦山行業(yè)、機械行業(yè)、印刷行業(yè)、制造行業(yè)、食品行業(yè)、熱電廠等企業(yè)。產(chǎn)品遍布全國各地及東南亞地區(qū)。　 公司本著成為一家受人尊重的企業(yè)的理念，以技術、創(chuàng)新、品質、服務為公司的基石，不斷朝著成為優(yōu)良環(huán)保設備集成商而努力、奮斗！
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